Plasseraud IP, groupe de conseils en propriété industrielle en France, a annoncé la nomination de huit nouveaux associés.
Les nouveaux associés sont :
• Stéphane Bezac
Mandataire agréé près l’Office Européen des Brevets (OEB), responsable du bureau de Grenoble. Il a rejoint Plasseraud IP en 2021.
• Laurence Loumes
Conseil en Propriété Industrielle, Mandataire agréée près l’OEB, également qualifiée en tant que US Patent Agent et Canadian Patent Agent. Représentante devant la Juridiction Unifiée du Brevet (JUB). Elle est membre du groupe depuis 2017.
• Seowon Park
Conseil coréen en Propriété Industrielle, elle dirige la Korea Team de Plasseraud IP qu’elle a rejoint en 2017.
• Johan Renes
Mandataire agréé près l’OEB, Conseil néerlandais en Propriété Industrielle et représentant devant la JUB. Il est responsable du bureau d’Amsterdam et a rejoint Plasseraud IP en 2025.
• Ellen Sein Aye
US Patent Attorney, elle dirige le bureau de Shanghai. Elle a intégré Plasseraud IP en 2005.
• Atsuya Takeshita
Conseil japonais en Propriété Industrielle, il est responsable de la Japan Team et fait partie du groupe depuis 2009.
• Atom Tong
Mandataire agréé près l’OEB, Conseil chinois en Propriété Industrielle, représentant devant la JUB. Présent au sein du groupe depuis 2008, il joue un rôle clé dans la stratégie de développement commercial pour le marché chinois, en complément de ses responsabilités en tant que mandataire européen et chinois.
• Sandrine Vimes
Conseil en Propriété Industrielle, Conseil Européen en Marques, Dessins et Modèles. Elle dirige les bureaux de Bordeaux et Angoulême, et a rejoint Plasseraud IP en 2015.
« Ces nominations illustrent parfaitement la stratégie de long terme du groupe : grandir tout en restant fidèle à nos valeurs d’excellence, de diversité et de transmission. Avec la cooptation de ces huit experts de Plasseraud IP aux parcours riches et internationaux, nous poursuivons notre ambition d’être un partenaire de référence pour la protection de l’innovation dans le <monde entier », commente Eric Burbaud, CEO.
